Hakuto 離子蝕刻機(jī) IBE

產(chǎn)品描述

上海伯東日本原裝進(jìn)口離子蝕刻機(jī) IBE 包含小型離子蝕刻機(jī)用于研究分析和大型離子蝕刻系統(tǒng)用于生產(chǎn)制造. Hakuto 離子蝕刻系統(tǒng)對(duì)磁性材料, 黃金, 鉑和合金金屬提供較佳蝕刻技術(shù). 它很容易做各種材料的蝕刻.

上海伯東是日本伯東 Hakuto 離子蝕刻機(jī) IBE 中國總代理

• Hakuto 離子蝕刻機(jī) IBE 技術(shù)參數(shù)：

  
  

  Hakuto 離子蝕刻機(jī) IBE 技術(shù)規(guī)格:

  型號(hào)	離子蝕刻機(jī) 7.5IBE	離子蝕刻機(jī) 10IBE	離子蝕刻機(jī) 20IBE-C	離子蝕刻機(jī) 20IBE-J
  適用范圍	適用于科研院所,實(shí)驗(yàn)室研究	適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實(shí)驗(yàn)室研究	適合中等規(guī)模量產(chǎn)使用的離子刻蝕機(jī)	適合大規(guī)模量產(chǎn)使用的離子刻蝕機(jī)
  基片尺寸	Φ4 X 1片或 Φ6 X 1片	Φ8 X 1片	Φ3 inch X 8片 Φ4 inch X 6片 Φ8 inch X 1片	Φ4 inch X 12片 Φ5 inch X 10片 Φ6 inch X 8片
  離子源	8cm 或 10cm 考夫曼離子源	10cm 考夫曼離子源	20cm 考夫曼離子源	20cm 考夫曼離子源

• Hakuto 離子蝕刻機(jī) IBE 應(yīng)用領(lǐng)域：

  Hakuto 離子蝕刻系統(tǒng) IBE 主要應(yīng)用：
  1.薄膜磁頭 Thin film Magnetic Head
  2.自旋電子學(xué) Spintronics
  3.MR Sencer
  4.微電子機(jī)械系統(tǒng) MEMS Micro-electromechanical Systems
  5.射頻設(shè)備 RF Devices
  6.光學(xué)組件 Optical Component
  7.超導(dǎo)電性 Super Conductivity

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